Placi speciale de siliciu cu orientare-pentru XRD Zero-suporturi de probe de fundal: o explicație detaliată a cerințelor de orientare

În experimentele de difracție cu raze X-(XRD), utilizarea unui substrat de fond zero-poate reduce semnificativ interferența de la substrat însuși la semnalul de difracție al probei, rezultând modele de difracție de calitate superioară.Selectarea orientării cristaluluieste unul dintre factorii de bază pentru atingerea unei{0}}performanțe de fundal zero.

Principiul de bază

Selecția orientării cristalului pentru substraturi de fundal zero- urmează un principiu simplu:Plasați vârful principal de difracție al substratului de siliciu în afara intervalului de scanare 2θ utilizat în mod obișnuit al experimentelor, evitând astfel interferența cu semnalul de difracție de la proba în sine.

Gama de scanare a experimentelor XRD convenționale cu pulbere este concentrată în cea mai mare parte în5 grade - 90 grade (2θ), deci este necesar să se selecteze o orientare specială a cristalului, astfel încât vârful de difracție caracteristic al siliciului să apară în afara acestui interval.

Orientări speciale utilizate în mod obișnuit

1. <510>Orientare

• Caracteristici de difracție: Vârful principal de difracție al siliciului apare la un unghi relativ mare de 2θ, care depășește intervalul de scanare utilizat în mod obișnuit al experimentelor XRD convenționale. Prin urmare, aproape niciun vârf evident de difracție a substratului de siliciu nu va apărea în intervalul 5 grade -90 grade.
• Avantaje: Performanță excelentă la zero-fond, în prezent cea mai frecventă orientare a substratului zero-focal în cercetarea științifică.
• Aplicabilitate: Recomandat pentru majoritatea experimentelor XRD convenționale, în special pentru testele XRD cu pulbere și -XRD cu unghi mic.

2. <511>Orientare

• Caracteristici de difracție: Similar cu<510>, vârful său de difracție caracteristic este, de asemenea, situat în afara intervalului experimental convențional și nu va cauza interferențe semnificative semnalului eșantionului.
• Avantaje: oferă, de asemenea, o performanță excelentă de fundal zero{0}.
• Aplicabilitate: O altă alegere mainstream, unii cercetători preferă această orientare bazată pe configurația instrumentului sau obiceiurile experimentale.

De ce orientările convenționale nu sunt potrivite?

Cele mai comune orientări ale plachetelor de siliciu de pe piață sunt<100>şi<111>, dar nu sunt potrivite pentru zero-substraturi de fundal:

Prin urmare, deși orientările convenționale sunt ușor disponibile, ele nu sunt absolut recomandate pentru experimentele XRD cu zero-fond.

Ghid de alegere a orientării

1. Selectați în funcție de intervalul de testare: dacă experimentul se concentrează în principal pe regiunea cu unghi-mic (XRD cu unghi-mic), ambele<510>şi<511>pot satisface cererea și ambele au efecte bune de zero{0}}de fundal.
2. Selectați în funcție de obiceiul personal: Diferite laboratoare pot avea obiceiuri tradiționale de utilizare. Ambele orientări sunt larg acceptate în mediul academic și puteți alege în funcție de propria experiență.
3. Personalizare lot mic: Orientările speciale nu pot fi obținute din inventarul convențional și necesită tăiere personalizată. Acceptăm personalizarea în loturi mici-a ambelor<510>şi<511>orientări, cu o comandă minimă de 5 bucăți.

Tabel Rezumat

Despre noi

Ningbo Sibranch Microelectronics Technology Co., Ltd. poate personaliza și oferi<510>sau<511>orientare XRD zero-plachete de siliciu cu substrat de fundal conform cerințelor cercetării. Acceptăm dimensiuni speciale, grosimi și cerințe de tratare a suprafețelor și acceptăm comenzi de loturi mici.

Site-ul web: www.sibranch.com|https://www.sibranchwafer.com/
Cont oficial WeChat: Sibranch Electronics

Pentru întrebări de personalizare, nu ezitați să ne contactați.