Descriere produs
CZ Silicon Wafer este un substrat de siliciu de înaltă calitate utilizat în producția de dispozitive semiconductoare avansate. Metoda CZ (Czochralski) este utilizată pentru fabricarea acestor plachete de siliciu, asigurând un nivel ridicat de puritate și uniformitate. Acest tip de plachetă de siliciu se mândrește cu performanțe electrice superioare și cu o densitate scăzută a defectelor, făcându-l o alegere ideală pentru o gamă largă de aplicații de semiconductor.
CZ Silicon Wafer este cunoscut pentru planeitatea excelentă, calitatea suprafeței și orientarea cristalografică. Aceste calități permit producerea de dispozitive semiconductoare de înaltă performanță, cu fiabilitate și eficiență superioară. Metoda CZ permite producerea de plachete cu diametru mai mare decât alte tehnici, cum ar fi metoda Float Zone, care poate duce la un randament crescut și costuri de producție mai mici.
În plus, CZ Silicon Wafers sunt foarte personalizabile, cu specificații care pot fi adaptate pentru a îndeplini cerințele specifice ale diferitelor aplicații de semiconductor. Acest lucru le face o soluție versatilă pentru producătorii care doresc să producă dispozitive electronice avansate cu performanță și fiabilitate superioare.
În general, CZ Silicon Wafer este un substrat de înaltă calitate care este potrivit pentru o gamă largă de aplicații semiconductoare. Proprietățile sale electrice superioare, densitatea scăzută a defectelor și nivelul ridicat de puritate îl fac o alegere ideală pentru producătorii care doresc să producă dispozitive electronice de ultimă oră.
|
Creştere |
CZ, MCZ, FZ |
|
Nota |
Prime, Test, Dummy etc. |
|
Diametru |
Alte diametre, cum ar fi 10mm, 12.7mm, 1.5″, 35mm, 40mm, 2.5″ sunt, de asemenea, posibile |
|
Grosime |
50~3000um |
|
finalizarea |
Ca tăiat, lepat, gravat, SSP, DSP etc |
|
Orientare |
(100) (111) (110) (211) (311) (511) (531) etc. |
|
Decupat |
Până la 4 grade |
|
Tip/Dopant |
P/B, N/Phos, N/As, N/Sb, intrinsec |
|
Rezistivitate |
FZ: Până la 20k ohm-cm |
|
CZ/MCZ: De la 0,001 la 150 ohm-cm |
|
|
Filme subțiri |
* PVD: Al, Cu, Au, Cr, Si, Ni, Fe, Mo, etc. |
|
* PECVD: oxid, nitrură, SiC etc. |
|
|
* Plachete epitaxiale de siliciu și servicii epitaxiale (SOS, GaN, GOI etc). |
|
|
Procesele |
DSP, ultra subțire, ultra plat etc. |
|
Reducerea dimensiunilor, șlefuirea spatelui, tăierea cubulețelor etc. |
|
|
MEMS |
Poza produsului
De ce să ne alegeți
Produsele noastre provin exclusiv de la primii cinci producători din lume și de la fabrici interne de top. Sprijinit de echipe tehnice interne și internaționale de înaltă calificare și măsuri stricte de control al calității.
Obiectivul nostru este de a oferi clienților asistență individuală cuprinzătoare, asigurând canale fluide de comunicare profesionale, oportune și eficiente. Oferim o cantitate minimă de comandă redusă și garantăm livrare rapidă în 24 de ore.
Spectacol de fabrică
Inventarul nostru vast este format din 1000+ produse, asigurându-se că clienții pot plasa comenzi pentru o singură bucată. Echipamentele noastre proprii pentru tăierea cubulețelor și șlefuirea în spate, precum și cooperarea deplină în lanțul industrial global ne permit livrarea promptă pentru a asigura satisfacția și confortul clienților.
Certificatul nostru
Compania noastră se mândrește cu diferitele certificări pe care le-am obținut, inclusiv certificatul nostru de brevet, certificatul ISO9001 și certificatul National High-Tech Enterprise. Aceste certificări reprezintă dedicarea noastră pentru inovație, managementul calității și angajamentul față de excelență.
Tag-uri populare: napolitană de siliciu cz, producători de napolitane de siliciu cz din China, furnizori, fabrică
