Vaferele de siliciu trebuie curățate cu strictețe în producția de dispozitive semiconductoare. Contaminarea urmei poate duce, de asemenea, la defectarea dispozitivului. Deci, care este scopul curățării plachetelor de siliciu?
Scopul curățării plachetelor de siliciu este de a îndepărta impuritățile contaminate de suprafață, inclusiv substanțele organice și anorganice. Unele dintre aceste impurități există în stare atomică sau ionică, iar unele există sub formă de pelicule subțiri sau particule de pe suprafața plachetei de siliciu. duce la diverse defecte.
Care este scopul curățării plachetelor de siliciu?
Jul 17, 2023
Lăsaţi un mesaj
S-ar putea sa-ti placa si
